一、基础工业领域对氮气纯度的要求(纯度 95%~99.5%)
化工与新材料行业
纯度要求:≥98%
用途:管道吹扫、气氛置换、原料气输送,适用于橡胶、塑料、聚氨酯生产等场景。
杂质控制:氧气≤0.5%,水分和碳氢化合物容忍度较高。
冶金与金属加工
纯度跨度:95%~99.999%
典型工艺:
热处理:95%~99%(低成本保护气)
激光切割:99%~99.999%(高纯度防氧化)
氧气限值:常规≤0.5%,精密工艺需≤0.01% 。
二、精密制造与食品医药对氮气纯度的要求(纯度 99.9%~99.999%)
电子行业
基础要求:99.9%(封装、退火)
高端需求:99.99%~99.999%(芯片制造、刻蚀)
杂质限值:
氧气≤3ppm(优等品)
水分≤1ppm,总碳氢≤3ppm
食品与医药行业
纯度标准:99.5%~99.9%
特殊要求:
食品包装:需食品级认证,除菌除尘处理
药品生产:水分≤67ppm,氧气≤0.5%
三、尖端科技领域对氮气纯度的要求(纯度 ≥99.9996%)
半导体制造
超高纯氮:99.9996%~99.9999%(6N级别)
杂质控制:
氧气≤0.001ppm(ppb级)
一氧化碳≤1ppm,水分≤3ppm
应用场景:光刻、气相沉积、晶圆保护 。
航天与科研
常规发射:≥98%
液氢加注等关键步骤:99.999%高纯氮(防爆置换) 。
📊 关键指标对比
行业 最低纯度 氧气限值 核心用途
化工/冶金 95%~98% ≤0.5% 气氛保护、吹扫
食品/医药 ≥99.5% ≤0.5% 保鲜、无菌包装
电子制造 ≥99.99% ≤0.01% 芯片封装、刻蚀
半导体/航天 ≥99.9996% ≤0.001ppm 晶圆加工、火箭燃料置换
⚠️ 选型注意
认证标准:
工业氮参照 GB/T 8979-2008(纯度≥99.5%)
高纯氮参照 GB/T 8980-1996(纯度≥99.999%) 。
特殊场景:
食品/医药需额外满足卫生标准 ;
半导体需超纯氮(99.9999%)及痕量杂质检测 。
实际选择需结合工艺敏感性与成本:非关键环节(如设备吹扫)可选工业氮,高精度工艺(如光刻)必须采用超纯氮并配合实时监测(如露点仪、氧分析仪)。